補助化学品

補助化学品

  • ストリッパー
    商品名 使用方法 特徴
    ストリッパー - 10 ポジティブに独占 水溶性の非塩素系溶剤タイプ/Al基材への腐食がない。
    ストリッパー - 104 ポジティブに独占 水溶性の非塩素系溶剤タイプ/Al基材への腐食がない。
    ストリッパー - 105 / 106 ポジティブに独占 水溶性の非塩素系溶剤/高効率タイプ。
    SST-A2 / SST-A47 ポジティブに独占 水溶性の非塩素系溶剤/超高効率タイプ。(Al基板)
    ストリッパー 502A /710 ネガティブ/ポジティブの両方に対応 非塩素系溶剤、標準タイプ。
    クリーンストリップ HP / HP-2 / MF ネガティブ/ポジティブの両方に対応 非塩素系溶剤 / ノンフェノールタイプ。
    USR-100 Si-ARCリムーバー/ポジティブ アルカリ 水性タイプ
    ST-120 / ST-121 Wafer Level Packaging & TSV Cleaners / ポジティブにもネガティブにも 有機アルカリ・米国製
  • 開発者
    商品名 使用方法 特徴
    NMD-3 (2.38% , 25%) (Made in USA) ポジティブなものに限定 標準タイプ/メタルフリー。 必要に応じて様々な混合比率を開発可能
    NMD-W (Made in USA) ポジティブな場合のエクスラクション 界面活性剤タイプ/メタルフリー
  • シンナー
    商品名 使用方法 特徴
    iLAシンナー(Made in USA ネガ型、ポジ型フォトレジストの両方に対応。 ウェーハエッジ、バックサイド、コータカップのレジスト除去に。 すべてのレジストに対して良好な溶解性
    OK73 シンナー ネガ型、ポジ型フォトレジストの両方に対応。 ウェーハエッジ、バックサイド、コータカップのレジスト除去に。 標準タイプ
    VFRシンナー ネガ型、ポジ型フォトレジストの両方に対応。 ウェーハエッジ、バックサイド、コータカップのレジスト除去に。 すべてのレジストに対して良好な溶解性
    ONNR-20 シンナー これらの化学物質は、半導体業界だけでなく、半導体以外のあらゆる業界にも対応しています。 これらの製品をお探しの方は、業界を問わず、ぜひご連絡ください。 高品質 シクロヘキサノン(C6H10O)
    PMシンナー これらの化学物質は、半導体業界だけでなく、半導体以外のあらゆる業界にも対応しています。 これらの製品をお探しの方は、業界を問わず、ぜひご連絡ください。 高品質 プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(C6H12O3
    HPシンナー これらの化学物質は、半導体業界だけでなく、半導体以外のあらゆる業界にも対応しています。 これらの製品をお探しの方は、業界を問わず、ぜひご連絡ください。 高品質な2-ヘプタノン(C7H14O
    ELシンナー これらの化学物質は、半導体業界だけでなく、半導体以外のあらゆる業界にも対応しています。 これらの製品をお探しの方は、業界を問わず、ぜひご連絡ください。 高品質 乳酸エチル(C5H10O3)