補助化学品

補助化学品

• ストリッパー

  商品名	使用方法	特徴
  ストリッパー - 10	ポジティブに独占	水溶性の非塩素系溶剤タイプ／Al基材への腐食がない。
  ストリッパー - 104	ポジティブに独占	水溶性の非塩素系溶剤タイプ／Al基材への腐食がない。
  ストリッパー - 105 / 106	ポジティブに独占	水溶性の非塩素系溶剤／高効率タイプ。
  SST-A2 / SST-A47	ポジティブに独占	水溶性の非塩素系溶剤／超高効率タイプ。(Al基板)
  ストリッパー 502A /710	ネガティブ／ポジティブの両方に対応	非塩素系溶剤、標準タイプ。
  クリーンストリップ HP / HP-2 / MF	ネガティブ／ポジティブの両方に対応	非塩素系溶剤 / ノンフェノールタイプ。
  USR-100	Si-ARCリムーバー／ポジティブ	アルカリ 水性タイプ
  ST-120 / ST-121	Wafer Level Packaging & TSV Cleaners / ポジティブにもネガティブにも	有機アルカリ・米国製

• 開発者

  商品名	使用方法	特徴
  NMD-3 (2.38% , 25%) (Made in USA)	ポジティブなものに限定	標準タイプ／メタルフリー。 必要に応じて様々な混合比率を開発可能
  NMD-W (Made in USA)	ポジティブな場合のエクスラクション	界面活性剤タイプ／メタルフリー

• シンナー

  商品名	使用方法	特徴
  iLAシンナー（Made in USA	ネガ型、ポジ型フォトレジストの両方に対応。 ウェーハエッジ、バックサイド、コータカップのレジスト除去に。	すべてのレジストに対して良好な溶解性
  OK73 シンナー	ネガ型、ポジ型フォトレジストの両方に対応。 ウェーハエッジ、バックサイド、コータカップのレジスト除去に。	標準タイプ
  VFRシンナー	ネガ型、ポジ型フォトレジストの両方に対応。 ウェーハエッジ、バックサイド、コータカップのレジスト除去に。	すべてのレジストに対して良好な溶解性
  ONNR-20 シンナー	これらの化学物質は、半導体業界だけでなく、半導体以外のあらゆる業界にも対応しています。 これらの製品をお探しの方は、業界を問わず、ぜひご連絡ください。	高品質 シクロヘキサノン(C6H10O)
  PMシンナー	これらの化学物質は、半導体業界だけでなく、半導体以外のあらゆる業界にも対応しています。 これらの製品をお探しの方は、業界を問わず、ぜひご連絡ください。	高品質 プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（C6H12O3
  HPシンナー	これらの化学物質は、半導体業界だけでなく、半導体以外のあらゆる業界にも対応しています。 これらの製品をお探しの方は、業界を問わず、ぜひご連絡ください。	高品質な2-ヘプタノン（C7H14O
  ELシンナー	これらの化学物質は、半導体業界だけでなく、半導体以外のあらゆる業界にも対応しています。 これらの製品をお探しの方は、業界を問わず、ぜひご連絡ください。	高品質 乳酸エチル(C5H10O3)