TOKアメリカ
半導体|フォトレジスト|TOK半導体
親水性は前処理なしで高接触角の基材に適用できる
フォトリソグラフィーによる疎水性・疎油性ファインパターンが得られる材料です。
ガラスや酸化膜の上に塗布するだけで親水性のナノレベルの薄膜を形成することができる材料です。