抗浸沒性

TOK生產193nm範圍的ArF浸沒式光刻膠材料，以滿足下一代對ArF浸沒式光刻膠製造的先進小型化技術的要求。 我們在日本的頂級工廠生產正光刻膠。 如果您有專案並正在尋找ArF浸沒式光刻膠解決方案，請與我們聯繫，我們可以提供有關我們產品系列的更具體數據。