G線抗蝕劑

TOK g-系列光刻膠解決方案

TOK生產g-Line光刻膠材料，用於436nm波長的薄膜厚度為1um至7um的應用。 我們在g-Line產品系列中生產正反光刻膠和負光刻膠。 所有g-Line光刻膠均在我們位於日本的工廠生產。 如果您有專案並正在尋找g-Line光刻膠解決方案，請與我們聯繫，我們可以提供有關我們產品系列的更具體數據。