抗韓爾氟

TOK KrF光刻膠解決方案

TOK生產KrF光刻膠材料，用於248nm波長的薄膜厚度為0.3um至3um的應用。 我們在KrF產品系列中生產正光刻膠和負光刻膠。TOK KrF光刻膠在我們位於日本的工廠生產。 如果您有專案並正在尋找KrF光刻膠解決方案，請與我們聯繫，我們可以提供有關我們產品系列的更具體數據。