克爾夫抵抗

托克·克爾夫光照解析度

TOK 生產 KrF 光耐火材料,用於 248nm 波長的薄膜厚度從 0.3um 到 3um 的應用。 我們在 KrF 產品陣容中製造正面和負面照片抗拒。TOK KrF 光子師是在日本的工廠製造的。 如果您有專案並正在尋找 KrF 光還器解決方案,請與我們聯繫,我們可以提供有關產品陣容的更具體數據。

Krf 抵制路線圖