我们的产品

电子材料解决方案
为广泛的客户需求提供最佳解决方案

在专注于生产半导体所用材料这一主要业务的同时,我们一直在积极拓展业务领域,以最先进的技术及其增强的应用为基础,进入半导体封装制造、LCD制造、3D封装和图像传感器/MEMS制造。

我们还在通过具有新视角的研发活动探索新的业务领域,如太阳能电池板和纳米压印,而不仅仅是基于现有技术的应用。今后,我们计划通过对市场趋势的迅速反应来创造功能性材料,并寻求最大限度地利用微加工技术来开发新产品。通过这种方式,我们将继续积极扩大我们在各行业的业务领域。

半导体制造领域解决方案

半导体公司制造的设备被用于广泛的产品,包括信息终端,如智能手机和平板电脑,家用电器,个人电脑,汽车和精密机械。这些器件也被用于最先进的技术,如服务器和超级计算机。伴随着应用的日益灵活,各种各样的半导体器件已经被开发出来。

为了应对更广泛和多样化的市场需求,我们已经发布了新类型的光刻胶,如用于亚微米级加工的g-line/i-line光刻胶,以及用于纳米级加工的KrF/ArF光刻胶。我们还在积极开发用于ArF浸泡的光刻胶以及用于EUV/电子束的新产品,许多人认为这是下一代的光源。

同时,我们正在努力开发一种基于创新理念和通过各种研究活动进行仔细验证的最先进的光刻胶。这种新的光刻胶将实现以10纳米尺度为目标的超微加工技术。除上述产品外,我们还提供显影液、剥离液、稀释剂和其他高纯度化学品。我们以先进的加工技术和各种类型的加工设备相结合的综合实力支持半导体制造业。

TOK美国能够为半导体行业提供美国制造的i-line光阻,以及显影剂解决方案(NMD-W和NMD-3 2.38%),和蚀刻后剥离解决方案。我们的美国团队随时准备支持您的需求。对于整个抗蚀剂系列,我们很高兴向您提供我们在美国和日本工厂生产的高质量产品。

半导体封装制造技术

除了配备高度复杂的功能外,移动设备正在迅速变得更轻、更薄和更紧凑,其速度远远超过我们的想象。封装和MEMS制造技术对这种进步起着极其重要的作用。

我们已经为一系列的封装工艺,包括最新的技术,开发了最佳的光刻胶和加工设备,并将其商业化。用于包装的光刻胶可用于各种生产技术,包括晶圆级CSP、SiP、RDL、TAB和COF。在加工设备领域,我们开发了用于厚膜加工的独特技术,例如可以形成20-100μm厚膜且CD均匀性极佳的镀膜机。

MEMS制造技术被广泛用于电子元件的小型化和更高功能。这项技术是电、机械、光和材料的综合组合,有望成为电子元件发展所需的基础技术的一个组成部分。事实上,它已经被一些电子元件所采用,并被引入图像传感器、喷墨喷嘴和高频波设备的制造技术中。

我们已经将用于MEMS的厚膜永久性光刻胶商业化,并开发了一种非旋转涂布机,能够在100微米的水平上一次性形成高度均匀的光刻胶涂层的厚膜,以及用于厚膜的冲洗机。我们在MEMS领域也提供高质量、最先进、最有效的加工技术,从而在材料和设备方面广泛支持电子元件的小型化。

辅助化学品

  • 脱衣舞者
    产品名称 使用方法 特点
    脱衣舞者 - 10 独家为正。 水溶性非氯组溶剂型/对铝基材无腐蚀。
    脱衣舞者 - 104 独家为正。 水溶性非氯组溶剂型/对铝基材无腐蚀。
    脱衣舞者 - 105 / 106 独家为正。 水溶性非氯组溶剂/高效型。
    SST-A2 / SST-A47 独家为正。 水溶性非氯组溶剂/超高效型。(铝基材)
    剥离器 502A /710 对于负面/正面 非氯类溶剂/标准型。
    清洁带HP / HP-2 / MF 对于负面/正面 非氯类溶剂/非酚类。
    USR-100 Si-ARC去除剂/阳性 碱水型
    ST-120 / ST-121 晶圆级封装和TSV清洗剂/正反两面都有 有机碱/美国制造
  • 开发商
    产品名称 使用方法 特点
    NMD-3 (2,38%, 25%) (美国制造) 正面的独家 标准型/无金属。 可以根据需要制定不同的混合比例
    NMD-W (美国制造) 正面的独家 表面活性剂类型/不含金属。
  • 稀释剂
    产品名称 使用方法 特点
    iLA稀释剂(美国制造 适用于阴性和阳性光刻胶。用于去除晶圆边缘、背面和涂布杯上的光刻胶。 对所有抗蚀剂具有良好的溶解性
    OK73 稀释剂 适用于阴性和阳性光刻胶。用于去除晶圆边缘、背面和涂布杯上的光刻胶。 对所有抗蚀剂具有良好的溶解性
    VFR 稀释剂 适用于阴性和阳性光刻胶。用于去除晶圆边缘、背面和涂布杯上的光刻胶。 标准型
    ONNR-20 稀释剂 这些化学品不仅可用于半导体行业,也可用于半导体以外的任何其他行业。如果你正在为你的项目寻找任何这些产品,不管是什么行业,请让我们知道。 高质量的环己酮(C6H10O)。
    PM稀释剂 这些化学品不仅可用于半导体行业,也可用于半导体以外的任何其他行业。如果你正在为你的项目寻找任何这些产品,不管是什么行业,请让我们知道。 高质量的丙二醇单甲醚醋酸酯(C6H12O3)。
    惠普稀释剂 这些化学品不仅可用于半导体行业,也可用于半导体以外的任何其他行业。如果你正在为你的项目寻找任何这些产品,不管是什么行业,请让我们知道。 高质量的2-庚酮(C7H14O)。
    EL 稀释剂 这些化学品不仅可用于半导体行业,也可用于半导体以外的任何其他行业。如果你正在为你的项目寻找任何这些产品,不管是什么行业,请让我们知道。 高质量的乳酸乙酯(C5H10O3)。

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