g-line电阻

TOK g-Line光刻胶解决方案

TOK生产g-Line光阻材料，用于436nm波长的薄膜厚度从1um到7um的应用。 在我们的g-Line产品系列中，我们同时生产正极和负极的光阻材料。 所有g-Line光阻都是在我们位于日本的工厂生产的。 如果你有一个项目正在寻找g-Line光阻解决方案，请与我们联系，我们可以提供更多关于我们产品系列的具体数据。