TOK美国
半导体|光刻胶|TOK半导体
TOK生产用于248nm波长的薄膜厚度从0.3um到3um的KrF光刻胶材料。 在我们的KrF产品系列中,我们同时生产正极和负极的光阻材料。TOK的KrF光阻材料是在我们位于日本的工厂生产的。 如果您有一个项目正在寻找KrF光阻解决方案,请与我们联系,我们可以提供有关我们产品系列的更多具体数据。