Cronología histórica

1936-1979

  • 1936 Abril : Comenzó como LABORATORIO DE INVESTIGACIÓN TOKYO OHKA.
  • 1940 Octubre : Reorganizada como sociedad anónima, TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.
  • 1967 Enero : Comienza a funcionar la PLANTA DE SAGAMI (actual CENTRO DE OPERACIONES DE SAGAMI).

1980-1989

  • 1980 noviembre : Celebración del 1er SEMINARIO TOKYO OHKA (seminario sobre tecnología de semiconductores).
  • 1981 Junio : Comienza a funcionar la PLANTA DE UTSUNOMIYA (nuestra primera planta de producción masiva a gran escala de fotorresinas utilizadas en la fabricación de semiconductores).
  • 1983 febrero : Comienza a funcionar la SEGUNDA PLANTA DE SAGAMI (actual CENTRO TÉCNICO DE SHONAN).
  • Diciembre : Comienza a funcionar la PLANTA DE KUMAGAYA (planta de fabricación de productos químicos industriales).
  • 1984 Enero : Comienza a funcionar la PLANTA YAMANASHI (planta exclusiva para la fabricación de planchas de impresión de fotopolímero).
  • Octubre : Comienza a funcionar la PLANTA DE EQUIPOS DE PROCESAMIENTO (dentro de la SEGUNDA PLANTA DE SAGAMI / actual CENTRO TÉCNICO DE SHONAN).
  • Diciembre : ASO PLANT inicia su actividad.
  • 1986 Julio : Cotiza en la Segunda Sección de la Bolsa de Tokio.
  • 1987 Marzo : Funda OHKA AMERICA, INC. en California, EE.UU.
  • Junio : Comienza a funcionar la PLANTA GOTEMBA.
  • Septiembre : Fundación de OHKA (UK) LTD. (actualmente OHKA EUROPE LTD.).
  • 1989 Abril : Funda T.O.K. INTERNATIONAL, INC. en Oregón, EE.UU.
  • Octubre : Comienza a funcionar la PLANTA DE IKUNO.
  • Noviembre : Celebración del 10º SEMINARIO OHKA DE TOKIO.

1990-1995

  • 1990 Septiembre : Cotiza en la Primera Sección de la Bolsa de Tokio.
  • Noviembre : Celebración del 1er SEMINARIO TOKYO OHKA en Corea.
  • 1992 Octubre : Establecida TOK ENGINEERING CO, LTD.
  • Diciembre : Fusión de OHKA AMERICA, INC. y T.O.K. INTERNATIONAL, INC. (OHKA AMERICA, INC. / actual TOKYO OHKA KOGYO AMERICA, INC.).
  • 1993 Mayo : Comienza a funcionar la PLANTA DE OREGON de OHKA AMERICA, INC. (actual TOKYO OHKA KOGYO AMERICA, INC.).
  • 1994 febrero : Comienza a funcionar la PLANTA DE KORIYAMA.
  • Mayo : Celebración del 1er SEMINARIO TOKYO OHKA en Taiwán.
  • 1995 Mayo : Creación de TOK ITALIA S.p.A.

1996-1999

  • 1996 Julio : Obtención del registro ISO 9002 para la PLANTA DE GOTEMBA y el CENTRO DE OPERACIONES DE SAGAMI.
  • Octubre : Inicio de la actividad de la fábrica de resinas de película seca de TOK ITALIA S.p.A.
  • 1997 febrero : Finalizada la construcción del nuevo edificio de investigación en el CENTRO DE OPERACIONES SAGAMI.
  • Marzo : Establecida TOK TECHNO SERVICE CO, LTD.
  • Mayo : Finalización de la construcción de nuestra primera planta de fabricación de fotorresistencias en el extranjero para la fabricación de semiconductores en OREGON PLANT de OHKA AMERICA, INC.
  • Diciembre : Finalizada la construcción de la tercera fase (planta de fabricación de fotorresistencias para deep-UV) de la PLANTA DE KORIYAMA, e iniciada la fabricación.
  • 1998 Enero : Establecida TOK TAIWAN CO, LTD.
  • Abril : Finalización de la construcción del nuevo edificio de investigación en la PLANTA DE SHONAN (actual CENTRO TÉCNICO DE SHONAN).
  • 1999 mayo : Obtención del registro ISO 9002 para todas las plantas del Departamento de Fabricación.
  • Noviembre : Celebración del 20º SEMINARIO OHKA DE TOKIO.
  • : Comienza a funcionar la planta de fabricación de decapantes y diluyentes de TOK TAIWAN CO.
  • : Obtención del registro ISO 14001 para las plantas de KORIYAMA, UTSUNOMIYA y GOTEMBA.

2000-

  • 2000 Agosto : Finaliza la construcción (julio) del nuevo edificio de la sede en el lugar que ocupaba su planta de Kawasaki, y se traslada a la nueva sede.
  • 2001 febrero : Desarrollo de la serie TARF-P (fotorresistencia de tipo positivo y alta resolución para láseres de excímeros ArF).
  • Marzo : Desarrollo de la serie DELS (hoja de capas dieléctricas para PDP).
  • Octubre : Finalizada la construcción de la línea de fabricación de ELASLON en la PLANTA DE YAMANASHI.
  • Diciembre : Desarrollo de la serie TELR-P (fotorresistencia de tipo positivo para pantallas EL orgánicas).
  • 2002 Marzo : Desarrollada TR63000 (sistema de revelado / recubrimiento de sustratos cuadrados grandes).
  • : Desarrollado OEBR-CAN021 (Fotoresistencia de tipo negativo para haces de electrones).
  • Agosto : Establecida OFICINA DE REPRESENTACIÓN EN SINGAPUR.
  • : Finalizada la construcción de la planta de producción de material de fabricación de PDP en la PLANTA DE KORIYAMA.
  • Octubre : Establecida la OFICINA DE REPRESENTACIÓN DE SHANGHAI.
  • 2003 febrero : Finalizada la construcción del nuevo edificio de investigación en el CENTRO DE OPERACIONES SAGAMI.
  • Octubre : Comienza a funcionar la OFICINA DE COMERCIALIZACIÓN DE SEÚL.
  • Noviembre : El CENTRO DE CONTROL DE LA DISTRIBUCIÓN comenzó a funcionar.
  • Diciembre : Desarrollo de TMMR (fotorresistencia permanente para MEMS).
  • 2004 septiembre : Fundación de TOK KOREA CO, LTD.
  • Octubre : Establecida CHANG CHUN TOK (CHANGSHU) CO., LTD.
  • 2005 Diciembre : Establecida TOKYO OHKA KOGYO EUROPE B.V.
  • 2006 Enero : OHKA AMERICA, INC. ha cambiado su nombre por el de TOKYO OHKA KOGYO AMERICA, INC.
  • Febrero : OHKA EUROPE LTD. ha transferido todas sus actividades a TOKYO OHKA KOGYO EUROPE B.V.
  • : Finalizada la construcción del nuevo edificio de investigación en el CENTRO DE OPERACIONES SAGAMI.
  • 2007 Abril : Finalizada la construcción del nuevo edificio de investigación en el CENTRO DE OPERACIONES SAGAMI.
  • 2008 marzo : Finalizada la construcción de un edificio de oficinas en Aso Pant.
  • 2008 noviembre : Desarrollo del sistema de manipulación de obleas de la serie TWM/TWR para el procesamiento de vías de silicio pasantes.
  • 2008 Diciembre : Desarrollado el sistema de revestimiento flotante de la serie TR165000FC.
  • 2009 Abril : Finalizada la construcción de la planta de fabricación de soluciones decapantes en TOKYO OHKA KOGYO AMERICA, INC.?Planta de Oregón?
  • Junio : Desarrollo de la fuente de difusión EPLUS?para fotovoltaica?
  • 2011 Enero : División de Marketing recién organizada, Departamento de Marketing.
  • Junio : Nueva organización de la División de Desarrollo de Nuevas Empresas, Departamento de Desarrollo de Nuevas Empresas.
  • Noviembre : Construcción de una nueva línea de producción de fotorresistentes semiconductores en la planta de Koriyama.
  • 2012 Agosto : Establecida TOK ADVANCED MATERIALS CO, LTD.