歴史年表

1936-1979

  • 1936年4月 TOKYO OHKA RESEARCH LABORATORY(東京応化研究所)としてスタート。
  • 1940年10月: 株式会社に改組し、東京応化工業株式会社を設立。
  • 1967年1月: 相模工場(現・相模事業所)操業開始。

1980-1989

  • 1980年11月: 第1回TOKYO OHKA SEMINAR(半導体技術セミナー)開催
  • 1981年6月 UTSUNOMIYA PLANT(半導体製造用フォトレジストの本格的な量産工場)が稼動。
  • 1983年2月: 相模第二工場(現湘南技術センター)操業開始
  • 12月: KUMAGAYA PLANT(工業薬品製造工場)操業開始
  • 1984年1月: 山梨工場(写真製版専用工場)操業開始。
  • 10月: プロセス機器工場(相模第二工場内/現湘南技術センター)操業開始。
  • 12月: ASO PLANTが操業開始。
  • 1986年7月 東京証券取引所市場第二部に上場。
  • 1987年3月: アメリカ・カリフォルニア州にOHKA AMERICA, INC.を設立。
  • 6月: GOTEMBA PLANTが操業開始。
  • 9月: OHKA (UK) LTD.を設立。(現OHKA EUROPE LTD.)を設立。
  • 1989年4月 アメリカ・オレゴン州にT.O.K. INTERNATIONAL, INC.を設立。
  • 10月: IKUNO PLANTが操業開始。
  • 11月: 第10回TOKYO OHKA SEMINAR開催

1990-1995

  • 1990年9月 東京証券取引所市場第一部に上場。
  • 11月: 韓国で「第1回東京応化セミナー」を開催。
  • 1992年10月 TOK ENGINEERING CO.,LTD.を設立。
  • 12月: OHKA AMERICA, INC.とT.O.K. INTERNATIONAL, INC.を合併。(OHKA AMERICA, INC. / 現 TOKYO OHKA KOGYO AMERICA, INC.) を設立。
  • 1993年5月 OHKA AMERICA, INC.のOREGON PLANTが操業開始。(現・東京応化工業アメリカ)のオレゴン工場が操業開始。
  • 1994年2月 郡山工場操業開始
  • 5月: 台湾で第1回TOKYO OHKA SEMINARを開催。
  • 1995年5月: 設立 TOK ITALIA S.p.A.

1996-1999

  • 1996年7月: GOTEMBA PLANTとSAGAMI OPERATION CENTERのISO 9002認証を取得。
  • 10月: TOK ITALIA S.p.A.のDry Film Resist工場が操業開始
  • 1997年2月: SAGAMI OPERATION CENTERに新研究棟を竣工。
  • 3月: 株)TOKテクノサービス設立
  • 5月: OHKA AMERICA, INC.のOREGON PLANTに、当社初の海外向け半導体用フォトレジスト製造工場を竣工。
  • 12月: 郡山工場第3期工事(Deep-UV用フォトレジスト製造工場)完成、製造開始。
  • 1998年1月: TOK TAIWAN CO.,LTD.を設立。
  • 4月: SHONAN PLANT(現SHONAN TECHNICAL CENTER)に新研究棟完成。
  • 1999年5月 製造部の全工場でISO9002を取得。
  • 11月: 第20回TOKYO OHKA SEMINAR開催
  • : TOK TAIWAN CO.,LTD.の剥離剤・シンナー製造工場が操業開始。
  • : KORIYAMA、UTSUNOMIYA、GOTEMBA PLANTのISO14001登録取得。

2000-

  • 2000年8月 川崎工場跡地に新本社ビルを竣工(7月)し、新本社に移転。
  • 2001年2月: TARF-Pシリーズ(ArFエキシマレーザー用高解像度ポジ型フォトレジスト)を開発。
  • 3月: DELSシリーズ(Dielectric Layer sheet for PDP)の開発。
  • 10月: 山梨工場にエラスロン製造ライン完成。
  • 12月: TELR-Pシリーズ(有機ELディスプレイ用ポジ型フォトレジスト)を開発。
  • 2002年3月: TR63000(大型角型基板用コータ/デベロッパ)を開発。
  • : OEBR-CAN021」(電子ビーム用ネガ型フォトレジスト)を開発。
  • 8月: SINGAPORE REPRESENTANTIVE OFFICEを設立。
  • : KORIYAMA PLANTにPDP製造用素材の生産工場が完成。
  • 10月: SHANGHAI REPRESENTIVE OFFICEを設立。
  • 2003年2月: SAGAMI OPERATION CENTERに新研究棟を竣工。
  • 10月: SEOUL MARKETING OFFICEの営業を開始。
  • 11月: DISTRIBUTION CONTROL CENTERの運用を開始しました。
  • 12月: TMMR(MEMS用パーマネントフォトレジスト)を開発。
  • 2004年9月: TOK KOREA CO.LTD.を設立。
  • 10月: CHANG CHUN TOK (CHANGSHU) CO, LTD.を設立。
  • 2005年12月: TOKYO OHKA KOGYO EUROPE B.V.を設立。
  • 2006年1月: OHKA AMERICA, INC.は、社名をTOKYO OHKA KOGYO AMERICA, INC.に変更しました。
  • 2月: OHKA EUROPE LTD.は、そのすべての事業をTOKYO OHKA KOGYO EUROPE B.V.に移管しました。
  • : SAGAMI OPERATION CENTERに新研究棟を竣工。
  • 2007年4月: SAGAMI OPERATION CENTERに新研究棟を竣工。
  • 2008年3月: Aso Pantにオフィスビルを竣工。
  • 2008年11月: 貫通電極加工用ウェーハ搬送システム「TWM/TWRシリーズ」を開発。
  • 2008年12月: フロート塗装システム「TR165000FCシリーズ」を開発。
  • 2009年4月: TOKYO OHKA KOGYO AMERICA, INC.のオレゴン工場に剥離液製造プラントを竣工。
  • 6月: 太陽電池用拡散ソース「EPLUS」を開発。
  • 2011年1月: 新設されたマーケティング本部、マーケティング部。
  • 6月: 新設された新事業開発部新事業開発課。
  • 11月: 郡山工場に半導体用フォトレジストの生産ラインを新設。
  • 2012年8月: TOKアドバンスト マテリアルズ株式会社を設立。