製品紹介

電子材料ソリューション
provides best solutions
for the wide range of customer needs

当社は、半導体の製造に使用される材料の製造を主要事業としていますが、最先端の技術とその応用力をベースに、半導体パッケージ製造、LCD製造、3Dパッケージ、イメージセンサー/MEMS製造など、積極的に事業領域を拡大しています。

また、既存技術の応用だけでなく、新たな視点での研究開発により、ソーラーパネルやナノインプリントなどの新しい事業領域を開拓していきます。今後は、市場の動向に迅速に対応して機能性材料を創出するとともに、微細加工技術を最大限に活用して新製品を開発していく予定です。そして、さまざまな産業分野で積極的に事業領域を拡大していきたいと考えています。

半導体製造分野のソリューション

半導体メーカーが作るデバイスは、スマートフォンやタブレットなどの情報端末、家電製品、パソコン、自動車、精密機械など、さまざまな製品に使われています。また、サーバーやスーパーコンピューターなどの最先端技術にもこれらのデバイスが使用されています。アプリケーションの多様化に伴い、多種多様な半導体デバイスが開発されています。

より広く多様な市場ニーズに対応するため、サブミクロンレベルの加工に対応したg線/i線フォトレジストや、ナノメートルレベルの加工に対応したKrF/ArFフォトレジストなど、新しいタイプのフォトレジストを発表してきました。また、ArF液浸用のフォトレジストや、次世代光源といわれるEUV/電子ビーム用の新製品の開発にも積極的に取り組んでいます。

同時に、革新的なアイデアとさまざまな研究活動による入念な検証に基づいて、最先端のフォトレジストの開発にも取り組んでいます。この新しいフォトレジストは、10ナノメートルスケールをターゲットとした超微細加工技術を可能にするものです。また、上記製品以外にも、現像液、剥離液、シンナーなどの高純度薬品を提供しています。高度な加工技術と各種加工装置を組み合わせた総合力で、半導体製造業界を支えています。

TOK Americaは、米国製のi-lineフォトレジストをはじめ、現像液(NMD-W、NMD-3 2.38%)、ポストエッチ剥離液を半導体業界に提供しています。米国のチームがお客様のニーズをサポートします。レジストの全ラインナップについては、米国と日本の両工場で製造された高品質な製品をご提供させていただきます。

半導体パッケージ製造技術

モバイル機器は、高機能化に加えて、想像をはるかに超えるスピードで軽量化・薄型化・コンパクト化が進んでいます。そのためには、パッケージやMEMSの製造技術が非常に重要な役割を果たします。

当社は、最新技術を含むさまざまなパッケージングプロセスに最適なフォトレジストと処理装置を開発し、製品化しています。パッケージ用フォトレジストは、ウェーハレベルCSP、SiP、RDL、TAB、COFなど、幅広い生産技術に対応しています。処理装置の分野では、20〜100μmの厚膜をCD均一性に優れた状態で形成できる塗布装置など、厚膜処理のための独自技術を開発しています。

電子部品の小型化・高機能化のために、MEMS製造技術が広く利用されています。この技術は、電気、機械、光、材料が一体となったもので、電子部品の開発に必要な基盤技術として期待されています。実際、すでに一部の電子部品に採用され、イメージセンサーやインクジェットノズル、高周波デバイスなどの製造技術に導入されている。

MEMS用厚膜パーマネントフォトレジストを製品化し、100μmレベルで均一性の高いフォトレジスト塗布が可能な厚膜を1回の塗布で形成できるノンスピンコーターと厚膜用現像機を開発しました。MEMS分野においても、高品質・最先端・高効率の加工技術を提供し、電子部品の小型化を材料・装置の両面から広くサポートしています。

補助化学品

  • ストリッパー
    商品名 使用方法 特徴
    ストリッパー - 10 ポジティブに独占 水溶性の非塩素系溶剤タイプ/Al基材への腐食がない。
    ストリッパー - 104 ポジティブに独占 水溶性の非塩素系溶剤タイプ/Al基材への腐食がない。
    ストリッパー - 105 / 106 ポジティブに独占 水溶性の非塩素系溶剤/高効率タイプ。
    SST-A2 / SST-A47 ポジティブに独占 水溶性の非塩素系溶剤/超高効率タイプ。(Al基板)
    ストリッパー 502A /710 ネガティブ/ポジティブの両方に対応 非塩素系溶剤、標準タイプ。
    クリーンストリップ HP / HP-2 / MF ネガティブ/ポジティブの両方に対応 非塩素系溶剤 / ノンフェノールタイプ。
    USR-100 Si-ARCリムーバー/ポジティブ アルカリ 水性タイプ
    ST-120 / ST-121 Wafer Level Packaging & TSV Cleaners / ポジティブにもネガティブにも 有機アルカリ・米国製
  • 開発者
    商品名 使用方法 特徴
    NMD-3 (2,38%, 25%)(Made in USA) ポジティブなものに限定 標準タイプ/メタルフリー。 必要に応じて様々な混合比率を開発可能
    NMD-W (Made in USA) ポジティブなものに限定 界面活性剤タイプ/メタルフリー
  • シンナー
    商品名 使用方法 特徴
    iLAシンナー(Made in USA ネガ型、ポジ型フォトレジストの両方に対応。ウェーハエッジ、バックサイド、コータカップのレジスト除去に。 すべてのレジストに対して良好な溶解性
    OK73 シンナー ネガ型、ポジ型フォトレジストの両方に対応。ウェーハエッジ、バックサイド、コータカップのレジスト除去に。 すべてのレジストに対して良好な溶解性
    VFRシンナー ネガ型、ポジ型フォトレジストの両方に対応。ウェーハエッジ、バックサイド、コータカップのレジスト除去に。 標準タイプ
    ONNR-20 シンナー これらの化学物質は、半導体業界だけでなく、半導体以外のあらゆる業界にも対応しています。これらの製品をお探しの方は、業界を問わず、ぜひご連絡ください。 高品質 シクロヘキサノン(C6H10O)
    PMシンナー これらの化学物質は、半導体業界だけでなく、半導体以外のあらゆる業界にも対応しています。これらの製品をお探しの方は、業界を問わず、ぜひご連絡ください。 高品質 プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(C6H12O3
    HPシンナー これらの化学物質は、半導体業界だけでなく、半導体以外のあらゆる業界にも対応しています。これらの製品をお探しの方は、業界を問わず、ぜひご連絡ください。 高品質な2-ヘプタノン(C7H14O
    ELシンナー これらの化学物質は、半導体業界だけでなく、半導体以外のあらゆる業界にも対応しています。これらの製品をお探しの方は、業界を問わず、ぜひご連絡ください。 高品質 乳酸エチル(C5H10O3)

マイクロフルイディクスに関する情報は親会社のサイトをご覧ください