は、幅広い顧客ニーズに対して、最適なソリューション
を提供します。
当社は、半導体製造用材料の製造を主な事業としながら、最先端技術やその応用技術をもとに、半導体パッケージ製造、液晶製造、3Dパッケージ、イメージセンサー・MEMS製造などの事業領域を積極的に拡大しています。
また、既存技術の応用にとどまらず、新たな視点での研究開発活動により、ソーラーパネルやナノインプリンティングなど、新たな事業領域の開拓を進めています。今後は、市場動向に迅速に対応した機能性材料の創出や、微細加工技術を最大限に活用した新製品の開発を進めていく予定です。そして、さまざまな産業分野での事業領域を積極的に拡大していきます。
半導体製造分野ソリューション
半導体メーカーは、スマートフォンやタブレット端末などの情報端末、家電製品、パソコン、自動車、精密機械など、さまざまな製品に使用されるデバイスを製造しています。また、サーバーやスーパーコンピューターなどの最先端技術にも使われています。アプリケーションの自由度が増すとともに、さまざまな半導体デバイスが開発されています。
多様化する市場ニーズに対応するため、サブミクロンレベルの加工に対応したg線/i線フォトレジスト、ナノメートルレベルの加工に対応したKrF/ArFフォトレジストなど、新しいタイプのフォトレジストをリリースしています。また、ArF液浸用フォトレジストや、次世代光源として注目されているEUV/電子ビーム用フォトレジストの開発にも積極的に取り組んでいます。
同時に、さまざまな研究活動を通じて、革新的なアイデアと丁寧な検証を重ね、最先端のフォトレジストの開発にも取り組んでいます。この新しいフォトレジストにより、10ナノメートルをターゲットとした超微細加工技術が可能になります。上記製品のほか、現像液、剥離液、シンナーなどの高純度化学品も提供しています。高度な加工技術と各種加工装置を組み合わせた総合力で、半導体製造業界を支えています。
TOK Americaは、米国製のi-lineフォトレジストをはじめ、現像液（NMD-W、NMD-3 2.38%）、ポストエッチ剥離液などを半導体業界に提供することが可能です。米国チームがお客様のニーズをサポートします。レジストの全ラインナップについては、米国と日本の両工場で生産された高品質な製品をご提供させていただきますので、お気軽にご相談ください。
g-ラインレジスト半導体パッケージ製造技術
モバイル機器は、高度な機能を備えるだけでなく、想像を超えるスピードで軽量化、薄型化、コンパクト化が急速に進んでいます。その中で、パッケージング技術やMEMS製造技術は非常に重要な役割を担っています。
最新技術を含むさまざまなパッケージングプロセスに最適なフォトレジストと処理装置を開発・製品化しています。パッケージ用フォトレジストは、ウェーハレベルのCSP、SiP、RDL、TAB、COFなど幅広い生産技術に対応しています。処理装置の分野では、20～100μmの厚膜をCD均一性に優れた状態で形成できる塗布装置など、厚膜処理に関する独自技術を開発しています。
MEMS製造技術は、電子部品の小型化・高機能化に広く利用されています。電気、機械、光、材料が一体となった技術であり、電子部品の開発に必要な基盤技術として期待されています。実際、すでに一部の電子部品で採用され、イメージセンサーやインクジェットノズル、高周波デバイスなどの製造技術に導入されている。
MEMS用厚膜永久フォトレジストを製品化し、100μmレベルの高均一なフォトレジスト塗布が可能な厚膜を1回の塗布で形成できるノンスピンコーターと厚膜用現像機を開発しました。MEMS分野でも高品質・最先端・最良の加工技術を提供し、電子部品の小型化を材料・装置の両面から広く支えています。
補助化学品
- ストリッパー
製品名 使用方法 特徴 ストリッパー - 10 ポジティブのための独占的な 水溶性非塩素系溶剤タイプ / Al基材への腐食がない。 ストリッパー - 104 ポジティブのための独占的な 水溶性非塩素系溶剤タイプ / Al基材への腐食がない。 ストリッパー - 105 / 106 ポジティブのための独占的な 水溶性非塩素系溶剤/高効率タイプ。 SST-A2 / SST-A47 ポジティブのための独占的な 水溶性非塩素系溶剤／超高効率タイプ。(Al基板) ストリッパー 502A /710 ネガティブ/ポジティブの両方について 非塩素系溶剤／標準タイプ。 クリーンストリップ HP / HP-2 / MF ネガティブ/ポジティブの両方について 非塩素系溶剤／非フェノール系。 USR-100 Si-ARCリムーバー／正 アルカリ 水性タイプ ST-120 / ST-121 ウェーハレベルパッケージング＆TSVクリーナー / ポジティブとネガティブの両方がある オーガニックアルカリ／アメリカ製 - デベロッパーズ
製品名 使用方法 特徴 NMD-3 (2,38%, 25%)(アメリカ製) ポジティブ専用 スタンダードタイプ／メタルフリー。 必要に応じて様々な混合比を開発可能 NMD-W (アメリカ製) ポジティブ専用 界面活性剤タイプ／メタルフリー。 - シンナー
製品名 使用方法 特徴 iLA Thinner（米国製） ネガ・ポジ両対応のフォトレジスト用。ウェーハエッジ、バックサイド、コーターカップのフォトレジスト除去用。 すべてのレジストに対して良好な溶解性を有する OK73シンナー ネガ・ポジ両対応のフォトレジスト用。ウェーハエッジ、バックサイド、コーターカップのフォトレジスト除去用。 すべてのレジストに対して良好な溶解性を有する VFR Thinner ネガ・ポジ両対応のフォトレジスト用。ウェーハエッジ、バックサイド、コーターカップのフォトレジスト除去用。 標準タイプ ONNR-20 シンナー これらの薬品は、半導体産業のみならず、半導体以外の産業でも使用可能です。業界を問わず、これらの製品をお探しの方は、ぜひ弊社にお声がけください。 高品質なシクロヘキサノン（C6H10O) PMシンナー これらの薬品は、半導体産業のみならず、半導体以外の産業でも使用可能です。業界を問わず、これらの製品をお探しの方は、ぜひ弊社にお声がけください。 高品質プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(C6H12O3) HPシンナー これらの薬品は、半導体産業のみならず、半導体以外の産業でも使用可能です。業界を問わず、これらの製品をお探しの方は、ぜひ弊社にお声がけください。 高品質な2-ヘプタノン（C7H14O) ELシンナー これらの薬品は、半導体産業のみならず、半導体以外の産業でも使用可能です。業界を問わず、これらの製品をお探しの方は、ぜひ弊社にお声がけください。 高品質な乳酸エチル（C5H10O3)