アイラインレジスト

TOK i-Lineフォトレジストソリューションズ

TOKでは、波長365nmで0.3umから7umの膜厚の用途に対応したi-Lineフォトレジスト材料を製造しています。 i-Lineでは、ポジ型とネガ型のフォトレジストをラインアップしています。TOK i-Lineフォトレジストは、米国と日本の工場で製造されています。 i-Lineフォトレジストをお探しのお客様には、より具体的なデータをご提供させていただきますので、お気軽にお問い合わせください。