i-Line Resist

TOK i-Line フォトレジストソリューション

TOKは、365nmの波長で0.3umから7umまでの膜厚に対応するi-Lineフォトレジスト材料を製造しています。 i-Lineの製品ラインナップには、ポジティブフォトレジストとネガティブフォトレジストがあります。TOKのi-Lineフォトレジストは、アメリカと日本の工場で製造されています。 i-Lineのフォトレジストをお探しの方は、弊社までご連絡ください。弊社の製品ラインアップについて、より具体的なデータをご提供いたします。

イリン2