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半導体|フォトレジスト|TOK半導体
TOKでは、波長248nmで0.3umから3umの膜厚の用途に対応したKrFフォトレジスト材料を製造しています。 KrFフォトレジストには、ポジ型とネガ型があります。TOK KrFフォトレジストは、日本国内の工場で製造されています。 KrFフォトレジストのソリューションをお探しのお客様は、弊社までご連絡ください。