ArF液浸レジスト

TOKは、ArF液浸フォトレジストが可能にする高度な微細化技術の次世代要求に応えるため、193nm帯のArF液浸フォトレジスト材料を製造しています。 当社は、国内最高水準の設備でポジ型フォトレジストを製造しています。 ArF液浸フォトレジストのソリューションをお探しのお客様は、弊社までご連絡いただければ、製品ラインアップについてより具体的なデータを提供させていただきます。