Gラインレジスト

TOK g-Line フォトレジストソリューション

TOKでは、436nmの波長で1umから7umまでの膜厚に対応したg-Lineフォトレジスト材料を製造しています。 g-Lineは、ポジティブフォトレジストとネガティブフォトレジストの両方をラインナップしています。 全てのg-Lineフォトレジストは、日本国内の工場で製造されています。 g-Lineのフォトレジストをお探しの方は、弊社までお問い合わせください。

Gラインレジストのロードマップ