g-ラインレジスト

TOK g-Lineフォトレジストソリューションズ

TOKでは、波長436nmで膜厚1μmから7μmまでの用途に対応したg-Lineフォトレジスト材料を製造しています。 g-Lineでは、ポジ型とネガ型のフォトレジストをラインアップしています。 g-Lineのフォトレジストは、すべて日本国内の工場で製造されています。 g-Lineのフォトレジストをお探しの方は、弊社までご連絡いただければ、製品ラインアップについてより具体的なデータをご提供いたします。