TOK fabrica materiales fotoresistentes de inmersión en ArF en el rango de 193 nm para responder a los requisitos de la próxima generación de tecnología de miniaturización avanzada que permiten los materiales fotoresistentes de inmersión en ArF. Fabricamos fotoresistencias positivas en nuestras instalaciones de primera línea en Japón. Si tiene un proyecto y está buscando una solución de fotorresistencia ArF de inmersión, póngase en contacto con nosotros y le proporcionaremos datos más específicos sobre nuestra gama de productos.