i線抗蝕劑

TOK i-Line 光刻膠解決方案

TOK生產i-Line光刻膠材料，用於365nm波長的薄膜厚度為0.3um至7um的應用。 我們在i-Line產品系列中生產正反光刻膠和負光刻膠。TOK i-Line光刻膠在我們位於美國和日本的工廠生產。 如果您有專案並正在尋找i-Line光刻膠解決方案，請與我們聯繫，我們可以提供有關我們產品系列的更具體數據。