輔助化學品

輔助化學品

• 脫衣舞娘

  產品名稱	用法	特徵
  脫衣舞娘 - 10	積極專屬。	水溶性非氯基溶劑型/對鋁基材無腐蝕。
  脫衣舞娘 - 104	積極專屬。	水溶性非氯基溶劑型/對鋁基材無腐蝕。
  脫衣舞娘 - 105 / 106	積極專屬。	水溶性非氯基溶劑/高效型。
  不鏽鋼-A2 / 不鏽鋼-A47	積極專屬。	水溶性非氯基溶劑/超高效型。（鋁基板）
  脫衣舞娘 502A /710	對於負/正	非氯基溶劑/標準型。
  清潔帶 HP / HP-2 / MF	對於負/正	非氯基溶劑/非苯酚型。
  USR-100	矽電弧去除劑/正極	鹼水型
  ST-120 / ST-121	晶圓級封裝和TSV清潔劑/正負極	有機鹼 / 美國製造

• 開發人員

  產品名稱	用法	特徵
  NMD-3 （2.38% ， 25%） （美國製造）	獨家為正	標準型/無金屬。 可根據需要開發不同的混合比例
  NMD-W （美國製造）	排他性為正	表面活性劑類型/不含金屬。

• 稀釋 劑

  產品名稱	用法	特徵
  iLA稀釋劑（美國製造）	適用於負光刻膠和正光刻膠。 用於去除晶圓邊緣、背面和鍍膜杯處的光刻膠。	對所有抗蝕劑具有良好的溶解性
  OK73 稀釋劑	適用於負光刻膠和正光刻膠。 用於去除晶圓邊緣、背面和鍍膜杯處的光刻膠。	標準型
  VFR 稀釋劑	適用於負光刻膠和正光刻膠。 用於去除晶圓邊緣、背面和鍍膜杯處的光刻膠。	對所有抗蝕劑具有良好的溶解性
  ONNR-20 稀釋劑	這些化學品不僅可用於半導體行業，也適用於半導體以外的任何其他行業。 如果您正在為您的項目尋找任何這些產品，無論行業如何，請告訴我們。	高品質環己酮（C6H10O）
  粉末冶金稀釋劑	這些化學品不僅可用於半導體行業，也適用於半導體以外的任何其他行業。 如果您正在為您的項目尋找任何這些產品，無論行業如何，請告訴我們。	高品質丙二醇單甲醚醋酸酯（C6H12O3）
  惠普稀釋劑	這些化學品不僅可用於半導體行業，也適用於半導體以外的任何其他行業。 如果您正在為您的項目尋找任何這些產品，無論行業如何，請告訴我們。	高品質2-庚酮（C7H14O）
  EL 稀釋劑	這些化學品不僅可用於半導體行業，也適用於半導體以外的任何其他行業。 如果您正在為您的項目尋找任何這些產品，無論行業如何，請告訴我們。	高品質乳酸乙酯（C5H10O3）