| iLA稀釋劑（美國製造） |
適用於負光刻膠和正光刻膠。 用於去除晶圓邊緣、背面和鍍膜杯處的光刻膠。 |
對所有抗蝕劑具有良好的溶解性 |
| OK73 稀釋劑 |
適用於負光刻膠和正光刻膠。 用於去除晶圓邊緣、背面和鍍膜杯處的光刻膠。 |
對所有抗蝕劑具有良好的溶解性 |
| VFR 稀釋劑 |
適用於負光刻膠和正光刻膠。 用於去除晶圓邊緣、背面和鍍膜杯處的光刻膠。 |
標準型 |
| ONNR-20 稀釋劑 |
這些化學品不僅可用於半導體行業，也適用於半導體以外的任何其他行業。 如果您正在為您的項目尋找任何這些產品，無論行業如何，請告訴我們。 |
高品質環己酮（C6H10O） |
| 粉末冶金稀釋劑 |
這些化學品不僅可用於半導體行業，也適用於半導體以外的任何其他行業。 如果您正在為您的項目尋找任何這些產品，無論行業如何，請告訴我們。 |
高品質丙二醇單甲醚醋酸酯（C6H12O3） |
| 惠普稀釋劑 |
這些化學品不僅可用於半導體行業，也適用於半導體以外的任何其他行業。 如果您正在為您的項目尋找任何這些產品，無論行業如何，請告訴我們。 |
高品質2-庚酮（C7H14O） |
| EL 稀釋劑 |
這些化學品不僅可用於半導體行業，也適用於半導體以外的任何其他行業。 如果您正在為您的項目尋找任何這些產品，無論行業如何，請告訴我們。 |
高品質乳酸乙酯（C5H10O3） |
