結構材料

用於結構製造的照片圖案永久材料(TMMF ®/TMMR®)

具有高解析度和高縱橫比的 MEMS 結構製造材料

薄膜厚度 130mm 10mm 點 L S

 

照片可圖案粘合劑材料

一種材料中的圖案和粘合劑

照片可圖案粘合材料 e1630647616932

 

紫外線納米印花材料

TOK 提供各種紫外線可列印材料,可顯示高 RI、低 RI 和無溶劑高 RI 材料,具有出色的可靠性和良好的透明度。這些材料可用於各種類型的光學設備(例如 DOE、AR 波導和 3D 感測器)。也可以形成複雜的精細結構和微透鏡圖案。

SEM 參考