辅助化学品

辅助化学品

  • 脱衣舞者
    产品名称 使用方法 特点
    脱衣舞者 - 10 独家为正。 水溶性非氯组溶剂型/对铝基材无腐蚀。
    脱衣舞者 - 104 独家为正。 水溶性非氯组溶剂型/对铝基材无腐蚀。
    脱衣舞者 - 105 / 106 独家为正。 水溶性非氯组溶剂/高效型。
    SST-A2 / SST-A47 独家为正。 水溶性非氯组溶剂/超高效型。(铝基材)
    剥离器 502A /710 对于负面/正面 非氯类溶剂/标准型。
    清洁带HP / HP-2 / MF 对于负面/正面 非氯类溶剂/非酚类。
    USR-100 Si-ARC去除剂/阳性 碱水型
    ST-120 / ST-121 晶圆级封装和TSV清洗剂/正反两面都有 有机碱/美国制造
  • 开发商
    产品名称 使用方法 特点
    NMD-3 (2.38% , 25%) (美国制造) 正面的独家 标准型/无金属。 可以根据需要制定不同的混合比例
    NMD-W (美国制造) 正面的豁免 表面活性剂类型/不含金属。
  • 稀释剂
    产品名称 使用方法 特点
    iLA稀释剂(美国制造 适用于阴性和阳性光刻胶。 用于去除晶圆边缘、背面和涂布杯上的光刻胶。 对所有抗蚀剂具有良好的溶解性
    OK73 稀释剂 适用于阴性和阳性光刻胶。 用于去除晶圆边缘、背面和涂布杯上的光刻胶。 标准型
    VFR 稀释剂 适用于阴性和阳性光刻胶。 用于去除晶圆边缘、背面和涂布杯上的光刻胶。 对所有抗蚀剂具有良好的溶解性
    ONNR-20 稀释剂 这些化学品不仅可用于半导体行业,也可用于半导体以外的任何其他行业。 如果你正在为你的项目寻找任何这些产品,不管是什么行业,请让我们知道。 高质量的环己酮(C6H10O)。
    PM稀释剂 这些化学品不仅可用于半导体行业,也可用于半导体以外的任何其他行业。 如果你正在为你的项目寻找任何这些产品,不管是什么行业,请让我们知道。 高质量的丙二醇单甲醚醋酸酯(C6H12O3)。
    惠普稀释剂 这些化学品不仅可用于半导体行业,也可用于半导体以外的任何其他行业。 如果你正在为你的项目寻找任何这些产品,不管是什么行业,请让我们知道。 高质量的2-庚酮(C7H14O)。
    EL 稀释剂 这些化学品不仅可用于半导体行业,也可用于半导体以外的任何其他行业。 如果你正在为你的项目寻找任何这些产品,不管是什么行业,请让我们知道。 高质量的乳酸乙酯(C5H10O3)。