中兴通讯制造

半导体制造领域解决方案

半导体公司制造的设备被用于广泛的产品,包括信息终端,如智能手机和平板电脑,家用电器,个人电脑,汽车和精密机械。 这些器件也被用于最先进的技术,如服务器和超级计算机。 伴随着应用的日益灵活,各种各样的半导体器件已经被开发出来。

为了应对更广泛和多样化的市场需求,我们已经发布了新类型的光刻胶,如用于亚微米级加工的g-line/i-line光刻胶,以及用于纳米级加工的KrF/ArF光刻胶。 我们还在积极开发用于ArF浸泡的光刻胶以及用于EUV/电子束的新产品,许多人认为这是下一代的光源。

同时,我们正在努力开发一种基于创新理念和通过各种研究活动进行仔细验证的最先进的光刻胶。 这种新的光刻胶将实现以10纳米尺度为目标的超微加工技术。 除上述产品外,我们还提供显影液、剥离液、稀释剂和其他高纯度化学品。 我们以先进的加工技术和各种类型的加工设备相结合的综合实力支持半导体制造业。

TOK美国能够为半导体行业提供美国制造的i-line光阻,以及显影剂解决方案(NMD-W和NMD-3 2.38%),和蚀刻后剥离解决方案。 我们的美国团队随时准备支持您的需求。 对于整个抗蚀剂系列,我们很高兴向您提供我们在美国和日本工厂生产的高质量产品。